光刻胶与防污防潮涂层氟单体
光刻胶(248nm,193nm)单体;防污防潮涂层氟单体;新宙邦深耕含氟精细化学品研究与创新十余年,致力于解决含氟光刻胶与防污防潮涂层材料的耐高温、光敏性、长寿命、优异机械性能等重点问题,为全球客户提供种类丰富、功能齐全的光刻胶与防污涂层材料及一站式解决方案。
特性
-
耐高温
-
高透光率
用途
-
光刻胶材料
-
光刻胶材料
-
防潮涂层
-
防潮涂层
-
防潮涂层
产品系列
乙烯基苯基六氟异丙醇(HFIST)
CAS号:122056-08-0;氟代苯乙烯单体、含氟共聚物成膜树脂和以该共聚物为基体树脂制备的光刻胶,该类光刻胶适用于248nm深紫外化学增幅型正性光刻胶。
防污涂层氧单体
含氧光刻胶单体